赤外線、UV、フラッシュアプリケーションセンター

エクセリタスノーブルライトジャパンでは、東京都文京区にアプリケーションセンターを構え、お客様とともに赤外線加熱または赤外線乾燥、UV硬化、瞬間加熱の実験を行っています。

お客様が抱えておられる課題に対し、アプリケーションセンターの専任技術者が、実験を通じて最適なソリューションを提案しています。

私たちは、製品性能、品質、サービス、いずれも最高のものを提供することを常に心がけています。

赤外線アプリケーションセンター
UVアプリケーションセンター
フラッシュランプアプリケーションセンター

赤外線ヒーターが目的プロセスに役立つかどうか、基本的なシミュレーションから始め、プロセスを形にするソフト面のサポート通じて、加熱のトータルソリューションの検証およびご提案をしています。

  • 各種赤外線ヒーターを用いた加熱および乾燥実験による性能比較
  • 実ラインを想定した試験によるプロセスパラメータの確立
  • データに基づいた最適なプロセスの検証およびご提案
  • 新規の最適化プロセスのご提案

アプリケーションセンターでは3種類の赤外線ヒーターユニットを常設しています。

水冷式高出力赤外線ヒーターユニット

水冷式ヒーターユニットを採用した高出力実験機です。400~800℃という高温加熱実験が可能です。

主な特徴
エネルギー密度      100~500kW/m2
サンプルサイズ 100x100mm程度
実験温度範囲 ~1000℃

ハイブリッド赤外線ヒーターユニット

ノーブルライトの標準空冷式ヒーターユニットに「短波長赤外線ヒーター」と「中波長カーボンヒーター」を組み入れたタイプで、同条件下で波長の違いを試していただけます。

主な特徴
エネルギー密度 40~96kW/m2
サンプルサイズ A4サイズ程度
実験温度範囲 ~300℃

両面加熱赤外線ヒーターユニット

短波長赤外線ヒーターを組み入れた両面加熱用実験機です。短時間かつ効率的な加熱を要するプロセス向けの実験が可能です。

主な特徴
エネルギー密度 10~48kW/m2
サンプルサイズ A4サイズ程度
実験温度範囲 ~250℃

ほとんどのUV硬化プロジェクトでは、まず最初にUV硬化プロセスが製品の要件を満たすことができるかどうか、または最適な硬化速度などを決定するために、いくつかのテストを実施することが必要になります。既にUV硬化プロセスが用いられている場合には、プロセスのトータルコストの観点から、プロセスのそのものを最適化する必要があるといった課題があります。

具体的には、以下のような検証やご提案をしています。

  • コーティングおよびUV照射によるプロセスの検証
  • 各種光源を用いた照射試験によって発現する性能、硬化性の比較
  • 実ラインを想定した試験によるプロセスパラメーターの確立
  • 赤外線ヒーターからUVランプに至るまで、幅広い波長領域の光源を用いた照射試験
  • 分析装置を利用し、データに基づいた最適なプロセスの検証およびご提案
  • 新規の最適化プロセスのご提案

お客さまの多種多様な課題やニーズにお応えるために、ラボには、実際の生産ラインを想定したテスト装置、結果を実証するための分析装置などを取り揃えています。

フラッシュランプが目的プロセスに役立つかどうか、加熱のトータルソリューションの検証およびご提案をしています。

  • 加熱物の表面だけのミリ秒オーダーの加熱実験
  • 加熱物の表面だけを短時間で数百度まで上昇させる加熱実験
  • 薄いフィルムやフィルム状のコーティング加熱実験
  • 加熱が必要な場所や物の周りに熱影響を及ぼしたくない加熱実験
  • 加熱後の冷却時間を短縮し、生産性を上げたいなどのプロセスの最適化のご提案
  • 実ラインを想定した試験によるプロセスパラメータの確立
主な特徴
パルス長 0.010~20      ms
パルス周波数 0.1~5000Hz
パルス電圧 100~400V DC